特許庁は２８日、米国と始めた特許に関する新制度の申請要件を緩和し、特許出願と同時に制度を適用できるようにすると発表した。日米どちらかの出願後から１年半経たないと制度の適用を申請できなかったが、申請時期を半年以上前倒しできるようにし、日米両国で早期に特許が取得できるようになるという。来月１日から実施する。日米両国は昨年８月、両国に特許出願した発明に…