米半導体メモリー大手のマイクロンテクノロジーは、日本での半導体生産体制を強化するため、日本政府による支援を前提に、広島工場（広島県東広島市）にＥＵＶ（極端紫外線）技術を日本に初めて導入し、次世代ＤＲＡＭを製造すると発表した。広島工場は、世界のＤＲＡＭ供給量の１割近くを製造している。国内の半導体生産拠点で初となるＥＵＶを導入し、半導体メモリーである…