信越化学工業は、半導体製造に用いるフォトレジスト材料の生産能力を増強すると発表した。日本と台湾の製造拠点に300億円を投資し、伸長する需要と技術進化に応える。能増するのは、台湾の子会社の信越電子材料股份有限公司（信越電子材料）と信越化学直江津工場。台湾では新工場棟を建設中で、2021年2月までの工事完了を目指す。直江津工場も新建屋を建設し、22年2月までの工事完了を目指す。